硫酸過水(ＳＰＭ)・電解硫酸の組成分析

半導体洗浄工程で使用される硫酸過水や電解硫酸では、

・ペルオキソ一硫酸（カロ酸）

・ペルオキソ二硫酸

・過酸化水素

・硫酸

などの成分の濃度管理が重要です。

また、硫酸過水は調整方法により組成が大きく変化する場合があります。

当社ではこれらの成分を個別に高精度分析する分析方法に対応しています。